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CMD2000/4纳米实验室研磨分散机，电机功率：2.2kw，转速高达14000rpm，处理在0-200L，设备体积较小，可直接放置实验台上操作。专为实验室研发，模拟生产流程，为量产提供可靠的数据论证。该中试型型机器和大型量产机型配置相同，且分散头的种类及相应线速度也相同，中试过程中的工艺参数在量产化之后不要重新调整，而将机器型号升级过程中的风险降到。
CMD2000/4纳米实验室研磨分散机是由胶体磨+分散机一体化而成的设备，先研磨后分散，效率高效果好。CMD2000系列研磨分散设备是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）
级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。
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