胶体磨,超微磨,湿法研磨机,研磨分散机,上海依肯专业于研磨设备的研发和生产,采用德国先进技术,提供各类流体研磨设备。旗下主要有高剪切胶体磨,研磨分散机等。
胶体磨是研磨设备中的重要一类,高剪切胶体磨在电动机的高速转动下物料从进口处直接进入高剪切破碎区,通过一种特殊粉碎装置,将流体中的一些大粉团、粘块、团块等大小颗粒迅速破碎,然后吸入剪切粉碎 区,在十分狭窄的工作过道内由于转子刀片与定子刀片相对高速切割从而产生强烈摩擦及研磨破碎等。在机械运动和离心力的作用下,将已粉碎细化的物料重新压入精磨区进行研磨破碎。精磨区分三级,越向外延伸一级磨片精度越高,齿距越小,线速度越长,物料越磨越细,同时流体逐步向径向作曲线延伸。每到一级流体的方 向速度瞬间发生变化,并且受到每分钟上千万次的高速剪切、强烈摩擦、挤压研磨、颗粒粉碎等,在经过三个精磨区的上千万次的高速剪切、研磨粉碎之后,从而产 生液料分子链断裂、颗粒粉碎、液粒撕破等使物料充分达到分散、粉碎、乳化、均质、细化的目的。液料的细度可达0.5um。
上海依肯高剪切胶体磨对比于国产胶体磨而言,研磨效果更强,主要体现在胶体磨转速上,国产胶体磨一般为3000rpm,而IKNCM2000系列高剪切胶体磨转速一般为3000rpm,可达14000rpm。另外IKN高剪切胶体磨比国产胶体磨的作用磨头更加精密,所以这些都觉得设备研磨效果。
上海依肯研磨设备另一个核心为:研磨分散机,是对IKN胶体磨的进一步改进,在CM2000系列高剪切的基础上加入了一级分散盘。先研磨后分散,对于物理的研磨细化能力更强。CMD2000系列研磨分散设备是IKN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变更为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)
胶体磨,超微磨,研磨机,研磨分散机,上海依肯研磨设备中的佼佼者,为您解决物料的研磨细化问题,IKN研磨设备,转速更高,效果更好,效率更快!
先进技术 供应各种研磨设备