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上海依肯机械设备有限公司销售部

乳化机,乳化泵,均质机,胶体磨,搅拌机,混合机,高剪切乳化...

网站公告
上海依肯机械设备有限公司,主要研发、生产制造,销售流体领域的几大系列:乳化机,均质机,分散机,胶体磨,乳化泵,成套设备等系列,有相关意向请联系:包先生 18018542795!
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粉底液研磨分散机 粉底液胶体磨 乳液研磨设备
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产品: 浏览次数:1080粉底液研磨分散机 粉底液胶体磨 乳液研磨设备 
品牌: IKN
产品型号: CMD2000
产品规格: CMD2000/4
最小起订量: 1 台
供货总量: 10 台
发货期限: 自买家付款之日起 15 天内发货
有效期至: 长期有效
最后更新: 2023-01-06 07:31
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详细信息
 【产品名称概述】粉底液研磨分散机,粉底液胶体磨,粉底液研磨设备,乳液研磨机,化妆品研磨设备,IKN研磨分散机
 【粉底液的简介】 
   粉底液 主要作用是均匀肤色,调整肌肤颜色,让肌肤看起来更自然均匀。其次,粉底液也具有一定的遮力。特别是对于细纹和色斑,粉底液将会很有效的遮盖类似瑕疵,让肌肤看起来更健康自然.要想得到高品质的粉底液,就必须充分细化粉底液的粒径。
                                  粉底液
粉底液研磨分散机的概述】
     粉底液研磨分散机,粉底液分散机,粉底液胶体磨 采用了二级处理结构,级采用了高剪切胶体磨的磨头模块,第二季采用了高剪切分散乳化机的分散乳化模块,第二级模块可根据客户对物料的处理要求开配定转子,定转子可配2P、2G、4M、6F、8SF,且定转子精密度都达到了水平。
  上海依肯机械设备IKN管线式高剪切研磨分散机是由IKN研发工程师于2013年新研发的一款用于物料精细研磨,分散,乳化,均质的高精度设备,高剪切研磨分散机结合了IKN高剪切胶体磨与IKN高剪切分散均质乳化机的高速研磨,分散,乳化,均质等功能,设备转速可达14000rpm,是目前国产设备转速的4-5倍。
  管线式高剪切研磨分散机是 IKN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们 将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。磨头下面的胶体磨可根据物 料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)。

粉底液研磨分散机,粉底液胶体磨,粉底液研磨设备,乳液研磨机,化妆品研磨设备,IKN研磨分散机 
粉底液研磨分散机的工作原理】
 
   粉底液研磨分散机是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外 部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有 效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。 

研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

    级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
粉底液研磨分散机粉底液研磨设备

    第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。

粉底液研磨分散机的特点】
   
   CMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精 细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和 结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

  粉底液研磨分散机,粉底液胶体磨,粉底液研磨设备,乳液研磨机,化妆品研磨设备,IKN研磨分散机
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